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    ASML DUV光刻機有多快?加速度高達7g、12秒完成一整片晶圓

    • 來源:互聯(lián)網(wǎng)
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    • 2021-08-21
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    作為芯片生產(chǎn)過程中最關(guān)鍵裝備的光刻機,有著極高的技術(shù)壁壘,有“半導(dǎo)體工業(yè)皇冠上的明珠”之稱,代表著人類文明的智慧結(jié)晶。

    在在芯片這樣一個爭分奪秒的行業(yè)里,時間就是金錢。

    據(jù)ASML官方介紹,ASML也一直在追求光刻機極致的速度,目前最先進的DUV光刻機,每小時可以完成300片晶圓的光刻生產(chǎn)。

    這是一個什么概念呢?

    我們來換算一下,完成一整片晶圓只需要12秒,這還得扣除掉晶圓交換和定位的時間,實際光刻時間要更短。

    而一片晶圓的光刻過程,需要在晶圓上近100個不同的位置成像電路圖案,所以完成1個影像單元(Field)的曝光成像也就約0.1秒。

    要實現(xiàn)這個成像速度,晶圓平臺在以高達7g的加速度高速移動。7g加速度是什么概念呢?F1賽車從0到100km/h加速約需要2.5秒,而晶圓平臺的7g的加速度,若從0加速到100km/h只要約0.4秒。

    DUV是深紫外線(Deep Ultraviolet Lithography),EUV是極深紫外線(Extreme Ultraviolet Lithography)。

    從制程工藝來看,DUV只能用于生產(chǎn)7nm及以上制程芯片。而只有EUV能滿足7nm晶圓制造,并且還可以向5nm、3nm繼續(xù)延伸。

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